ЗАДАЧА ОДНА, РЕШЕНИЙ - МНОЖЕСТВО!

Растворы для снятия фоторезиста и защитной паяльной маски

Маркировка, применение Характеристики
RISTOFF C-8
Применение: паяльная маска
Низкая температура : 50°C
Щелочной процесс
Двойная концентрация
Не требуется дополнительной очистки, полоскания
Успешная работа со всеми типами паяльных масок
RISTOFF C-53
Применение: фоторезист
Стандартное
Внутренние и внешние слои
Покрытие никель/золото
Щелочное и кислое травление
RISTOFF C-71
Применение: фоторезист
Базовый состав : MEA (Моноэтаноламин)
Внешние слои
Кислое травление
  • Форум производителей печатных плат
  • Станок Apollon DI F10 в работе в компании «ТЕХНОТЕХ»
  • Станок Apollon DI A11 в работе в компании «ТЕХНОТЕХ»
  • АО НОВАТОР - Все для производства печатных плат

    АО «Новатор» приглашает на выставку International Electronics Circuit Exhibition 2019

    Интереснейшая выставка электроники International Electronics Circuit Exhibition 2019 состоится 4-6 декабря в Шэньчжэнь, Китай.

  • АО НОВАТОР - Все для производства печатных плат

    Плохая адгезия паяльной маски может быть большой проблемой. Пусть MultiPrep 200 от MacDermid Alpha будет решением

    MultiPrep 200 от MacDermid Alpha - это революционный процесс предварительной обработки для адгезии паяльной маски, cухого пленочного фоторезиста и жидких фоторезистов к медным поверхностям.

  • АО НОВАТОР - Все для производства печатных плат

    Итоги выставки Productronica в г. Мюнхен

    Руководство АО «Новатор» благодарит партнеров и клиентов, уделивших время совместным встречам в рамках выставки Productronica 13 и 14 ноября.