Фоторезист – один из основных материалов микро и радиоэлектроники, представляет собой светочувствительную полимерную пленку, которая наносится на материал в процессе фотолитографии для получения расположения окон с целью доступа травящих или других веществ к поверхности обрабатываемого материала в соответствии с фотошаблоном.
Сухой пленочный фоторезист состоит из трех слоев полимеров, где первый и третий слои — защитные, а светочувствительный слой находится в середине. Стандартное разрешение сухих пленочных фоторезистов 125-250 мкм, поэтому в основном используются в изготовлении печатных плат, особенно многослойных. Фоторезист прикатывают к поверхности ламинатором, весь процесс производства печатных плат автоматизируется.
