Сухой пленочный фоторезист на водной основе Photec PH-2000

Hitachi Chemical серии PH-2000 представляет собой сухой пленочный фоторезист полностью на водной основе, применяемый для производства печатных плат с высокой плотностью монтажа. Эта новая пленка с высокой светочувствительностью разработана для изоляции отверстий, для процессов травления и селективного электролитического осаждения. Photec PH-2000 улучшит производительность благодаря отличной устойчивости к осаждению, изолирующим свойствам, высокому разрешению и прекрасной адгезии.

Область применения: производство печатных плат.

Особенности

Благодаря своим особым свойствам данный фоторезист позволяет достичь высокой эффективности при первом пропуске.

• Превосходная адгезия и сочетаемость с платами с элементами уменьшенных размеров.
• Высокая светочувствительность и быстрое экспонирование обеспечивают высокую пропускную способность.
• Хорошая контрастность изображения после экспонирования облегчает визуальный контроль.
• Полная совместимость с процессами электролитического осаждения.
• Хорошие изолирующие свойства.
• Малое количество осадка в ванне проявления, следовательно, меньше простои, связанные с техобслуживанием.

Физические свойства

 
Вернуться