Hitachi Chemical серии PH-2000 представляет собой сухой пленочный фоторезист полностью на водной основе, применяемый для производства печатных плат с высокой плотностью монтажа. Эта новая пленка с высокой светочувствительностью разработана для изоляции отверстий, для процессов травления и селективного электролитического осаждения. Photec PH-2000 улучшит производительность благодаря отличной устойчивости к осаждению, изолирующим свойствам, высокому разрешению и прекрасной адгезии.
Область применения: производство печатных плат.
Особенности
Благодаря своим особым свойствам данный фоторезист позволяет достичь высокой эффективности при первом пропуске.
- Превосходная адгезия и сочетаемость с платами с элементами уменьшенных размеров.
- Высокая светочувствительность и быстрое экспонирование обеспечивают высокую пропускную способность.
- Хорошая контрастность изображения после экспонирования облегчает визуальный контроль.
- Полная совместимость с процессами электролитического осаждения.
- Хорошие изолирующие свойства.
- Малое количество осадка в ванне проявления, следовательно, меньше простои, связанные с техобслуживанием.
Физические свойства
| Photec | Толщина светочувствительного слоя (мкм) | Ширина (мм) |
| H-2040 | 40 | 305 |
| H-2050 | 50 | 305 |
