Экспонирование

Процесс экспонирования происходит при засветке фоторезиста светом или ультрафиолетом через шаблон с нужным рисунком с использованием системы оптических линз, или без шаблона, где рисунок формируется путем перемещения лазерного или электронного луча, сфокусированного на поверхности фоторезиста.

Основные параметры экспонирования: длина волны, время экспонирования, мощность источника излучения. Важно правильно подобрать параметры, чтоб не возникло проблем с проявлением фоторезиста, также от мощности этих параметров зависит производительность установок.