Задубливание и сушка
Задубливание :
Целью является дальнейшая стабилизация пленки фоторезиста перед травлением. На этой стадии происходит удаление остаточного растворителя и термическое разложение нафтохинондиазида, а также структурирование пленки фоторезиста. Все это улучшает адгезию и стойкость пленки к травителям.
Предварительная сушка :
Предназначена для удаления растворителя, что способствует высушиванию резистивной пленки. Условия сушки должны хорошо контролироваться, так как растворитель в небольшом количестве находится на пленке, в связи с высокой точностью его кипения, влияя на скорость растворения фоторезиста и светочувствительность.
Пост — экспозиционная сушка :
Применяется с целью улучшения литографической эффективности, улучшения адгезии и термической стабильности профиля фоторезиста